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產(chǎn)品介紹

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實(shí)驗(yàn)科研專用高純度單晶硅片

實(shí)驗(yàn)科研專用高純度單晶硅片

高純單晶拋光硅片,已激光劃片,方便大小使用,小硅片尺寸是3、5、10、15、20、25、30、40、50mm的方片,硅片厚度550um-725um,有少量庫(kù)存,其他尺寸的需要定制,請(qǐng)聯(lián)系店家??捎糜谕捷椛錁悠份d體、PVD/CVD鍍膜襯底、磁控濺射生長(zhǎng)樣品、XRD、SEM等領(lǐng)域。

生長(zhǎng)方法     直拉單晶              

  拋光           單拋(拋光面有藍(lán)膜保護(hù))

 晶體取向     <100>

 電阻率        1~30

工藝參數(shù)     平整度TIR<3μm、撓曲度TTV<10μm、彎曲度BOW<10μm、粗糙度<0.5nm、顆粒度<10(for size>0.3μm)

 加工定制    客戶如果需要不同參數(shù)的硅片,請(qǐng)聯(lián)系客服

 



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高純單晶拋光硅片,已激光劃片,方便大小使用,小硅片尺寸是3、5、10、15、20、25、30、40、50mm的方片,硅片厚度550um-725um,有少量庫(kù)存,其他尺寸的需要定制,請(qǐng)聯(lián)系店家。可用于同步輻射樣品載體、PVD/CVD鍍膜襯底、磁控濺射生長(zhǎng)樣品、XRD、SEM等領(lǐng)域。

生長(zhǎng)方法     直拉單晶              

  拋光           單拋(拋光面有藍(lán)膜保護(hù))

 晶體取向     <100>

 電阻率        1~30

工藝參數(shù)     平整度TIR<3μm、撓曲度TTV<10μm、彎曲度BOW<10μm、粗糙度<0.5nm、顆粒度<10(for size>0.3μm)

 加工定制    客戶如果需要不同參數(shù)的硅片,請(qǐng)聯(lián)系客服

 



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