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產(chǎn)品介紹

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熱氧化離子注入鍍膜沉積刻蝕晶圓鍵合CMP快速退火

光刻/離子注入/ 鍍膜/刻蝕等科研代加工

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<p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">光刻技術--Lithography Technology光刻一種精密的微細加工技術。常規(guī)光刻技術是采用紫外光作為圖像信息載體，以光致抗光刻技術蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，最終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);"> </span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">公司提供電子束光刻、步進式光刻、接觸式光刻等光刻技術，線寬最小可達10nm，多種光刻結合的先進光刻理念，實現(xiàn)您不同尺寸的光刻需求。</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">電子束光刻：最小線寬50nm（成熟），適合在導電襯底、圖形面積小的圖形加工?！?lt;/span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">投影式光刻：stepper i7/i10/i12，最小線寬350nm，適合在標準圓片上有量加工。　</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">接觸、接近式光刻：MA6/BA6光刻機，最小線寬1um，適合正反套刻，襯底包容性高。</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);"> </span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">此產(chǎn)品屬于定制產(chǎn)品，可根據(jù)客戶需求來定制，如果需要設計，請聯(lián)系我們客服或者聯(lián)系張生，手機號碼18948798140，我們竭誠為您服務！ </span></p><p><img src="http://prof55eea.pic48.websiteonline.cn/upload/p11f.jpg" width="750" height="750" style=""/></p><p><img src="http://prof55eea.pic48.websiteonline.cn/upload/dd11.jpg" width="750" height="750" style=""/></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);"></span><br/></p><p><br/></p>

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