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光刻技術(shù)--Lithography Technology光刻一種精密的微細加工技術(shù)。常規(guī)光刻技術(shù)是采用紫外光作為圖像信息載體，以光致抗光刻技術(shù)蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，最終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。

公司提供電子束光刻、步進式光刻、接觸式光刻等光刻技術(shù)，線寬最小可達10nm，多種光刻結(jié)合的先進光刻理念，實現(xiàn)您不同尺寸的光刻需求。

電子束光刻：最小線寬50nm（成熟），適合在導(dǎo)電襯底、圖形面積小的圖形加工?！?/span>

投影式光刻：stepper i7/i10/i12，最小線寬350nm，適合在標準圓片上有量加工?！?/span>

接觸、接近式光刻：MA6/BA6光刻機，最小線寬1um，適合正反套刻，襯底包容性高。

此產(chǎn)品屬于定制產(chǎn)品，可根據(jù)客戶需求來定制，如果需要設(shè)計，請聯(lián)系我們客服或者聯(lián)系張生，手機號碼18948798140，我們竭誠為您服務(wù)！